一種使用直徑為 0.1–300 μm 的細(xì)超潔凈冰粒對(duì)半導(dǎo)體晶圓進(jìn)行去污的方法。通過調(diào)整冰粒硬度、射流壓力和射流角度來控制對(duì)晶圓表面的影響。它可以準(zhǔn)確地去除晶圓表面的亞微米顆粒（直徑<0.3um）和有機(jī)污染物，如指紋、油脂和油性墨水。通過添加加速冰射流的機(jī)制改進(jìn)了這種去污方法。這些電極由高頻交流電源連接，每個(gè)電極在冰粒運(yùn)動(dòng)方向上的長度是可以調(diào)節(jié)的。

根據(jù)冰粒的速度進(jìn)行調(diào)整。去污方法的另一種改進(jìn)是使用含有過氧化氫的冰粒，用從融化的冰粒-H2O2混合物中得到的H2O2溶液對(duì)表面進(jìn)行物理和化學(xué)去污。

許多研究使用冰噴霧去污方法對(duì)晶圓進(jìn)行去污，并評(píng)估了去污過程的主要變量對(duì)去污效率的影響。冰粒去污效率大于95%。去污效率受顆粒的質(zhì)量濃度、腔室壓力和噴嘴與基板之間的距離的影響。

冰噴射已成功用于去除計(jì)算機(jī)硬盤驅(qū)動(dòng)器上的污染物。硬盤表面噴漆，然后用35g/min的冰流量和直徑0.5~3mm的冰粒對(duì)硬盤表面進(jìn)行噴砂處理2分鐘。去污后硬盤正常運(yùn)行，硬盤上的音頻文件聲音沒有變化。其他示例包括液晶顯示器、電路板、太陽能電池板組件、光學(xué)組件的放大鏡的去污，以及從薄膜表面到基材的去污，這些去污在去污后對(duì)表面進(jìn)行目視或顯微鏡檢查時(shí)未觀察到損害。