去除表面污染物對(duì)于所有工藝都是必不可少的：在這些工藝中，必須以某種方式對(duì)受污染的表面進(jìn)行改性，以便進(jìn)行后續(xù)處理，例如薄膜沉積、粘合或表面圖案化。

因?yàn)楸砻娴挠袡C(jī)和無(wú)機(jī)污染物通常會(huì)導(dǎo)致粘合不牢固，甚至影響粘合的耐久性，導(dǎo)致粘合產(chǎn)品失效。濕洗和干洗是在各種工業(yè)應(yīng)用中去除表面污染物的成熟工藝。

許多傳統(tǒng)上用于濕式清潔的溶劑對(duì)環(huán)境有害，例如 HCFC，其使用越來(lái)越受到限制并被淘汰。

因此，人們一直在努力尋找其他方法來(lái)代替溶劑清洗法。激光、微研磨、等離子、紫外線-臭氧（UV-O3）、固態(tài)氣體顆?；蜍浹–O2、Ar-N2）、靜電、水冰晶、微納米粒子束等干洗方式，以及高速噴氣式飛機(jī)已經(jīng)開(kāi)發(fā)出來(lái)并已商業(yè)化。在這些技術(shù)中，UV-O3 是將表面有機(jī)污染物去除到接近原子水平的有效方法。與其他干法表面處理技術(shù)相比，UV-O3處理的明顯優(yōu)勢(shì)是可以在常壓下操作，因此設(shè)備和運(yùn)行成本相對(duì)較低。

特別是，包含質(zhì)子、電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)物質(zhì)的復(fù)雜混合物的氣體等離子體（氧、氫等離子體）可以產(chǎn)生顯著的發(fā)射效應(yīng)。相比之下，由于不存在高能粒子，UV-O3 清潔比氧等離子體更溫和，這意味著 UV-O3 清潔方法可以在各種應(yīng)用中形成對(duì)基于氧或氫等離子體的傳統(tǒng)去污技術(shù)的有效替代。